В вершинах квадрата со стороной L расположены одинаковые заряды q. Чему равна напряженность на расстоянии d=2L от центра квадрата: а) на положении диагонали; б) на прямой, проходящей через центр квадрата и параллельной его стороне?

Запишем формулы:

a = (V-V₀) / t (1)

S = V₀·t + a·t² / 2 (2)

Подставим (1) в (2):

S = V₀·t + (V-V₀) ·t²/ (2·t)

S = V₀·t + (V-V₀) ·t/ 2

S = V₀·t + V·t/2 - V₀ ·t/ 2

S = (2·V₀·t + V·t - V₀ ·t) / 2

S = (V₀·t + V·t) /2

или:

S = (V₀+V)·t / 2

S = ( (V₀+V)/2) · t

Получили интересную и простую формулу, которой практически не пользуются на уроке физики (а зря...)

То есть путь при равноускоренном движении равен среднеарифметическому значению начальной и конечной скорости умноженному на время.

Ускорение знать вообще не надо!

Кипе́ние — процесс интенсивного парообразования, который происходит в жидкости, как на свободной её поверхности, так и внутри её структуры. При этом в объёме жидкости возникают границы разделения фаз, то есть на стенках сосуда образуются пузырьки, которые содержат воздух и насыщенный пар. Кипение, как и испарение, является одним из парообразования. В отличие от испарения, кипение может происходить лишь при определённой температуре и давлении. Температура, при которой происходит кипение жидкости, находящейся под постоянным давлением, называется температурой кипения. Как правило, температура кипения при нормальном атмосферном давлении приводится как одна из основных характеристик химически чистых веществ. Процессы кипения широко применяются в различных областях человеческой деятельности. Например, кипячение является одним из распространённых физической дезинфекции питьевой воды. Кипячение воды представляет собой процесс нагревания её до температуры кипения с целью получения кипятка. Кипение является фазовым переходом первого рода. Кипение происходит гораздо более интенсивно, чем испарение с поверхности, из-за присутствия очагов парообразования, обусловленных как более высокой температурой достигаемой в процессе кипения, так и наличием примесей[1]. На процесс образования пузырьков можно влиять с давления, звуковых волн, ионизации и других факторов возникновения центров парообразования. В частности, именно на принципе вскипания микрообъёмов жидкости от ионизации при прохождении заряженных частиц работает пузырьковая камера.