1. Ион кислорода О2^2+ обладает диамагнитными свойствами, поскольку не содержит неспаренных электронов. Кратность связи в ионе О2^2+ равна (8–2)/2 = 3 Распределение электронов по орбиталям представлено во вложении. 2. Зависимость скорости реакции от температуры описывается правилом Вант-Гоффа: При повышении температуры на каждые 10 градусов константа скорости гомогенной элементарной реакции увеличивается в два—четыре раза. Уравнение: V2=V1*ŷ^{(T2-T1)/10}, где V-скорость реакции 1 и 2, Т- температура реакции 1 и 2, ŷ- температурный коэффициент скорости. Подставляем значения в уравнение и получаем V2/V1=2,8^{32/10}=27. Таким образом при увеличении температуры на 32 градуса скорость растворения увеличится в 27 раз.
Распределение электронов по орбиталям представлено во вложении.
2. Зависимость скорости реакции от температуры описывается правилом Вант-Гоффа: При повышении температуры на каждые 10 градусов константа скорости гомогенной элементарной реакции увеличивается в два—четыре раза.
Уравнение: V2=V1*ŷ^{(T2-T1)/10}, где V-скорость реакции 1 и 2, Т- температура реакции 1 и 2, ŷ- температурный коэффициент скорости. Подставляем значения в уравнение и получаем V2/V1=2,8^{32/10}=27.
Таким образом при увеличении температуры на 32 градуса скорость растворения увеличится в 27 раз.
CsOH - сильное основание, H₂SO₄ - сильная кислота. Гидролиз не идёт!
BaI₂
Ba(OH)₂ - сильное основание, HI - сильная кислота. Гидролиз не идёт!
Ni(NO₃)₂
Ni(OH)₂ - слабое основание, HNO₃ - сильная кислота. Гидролиз идёт по катиону. Среда - кислая
Ni + H₂O ⇔ NiOH + H
2NO₃ + Ni + H₂O ⇔ NiOH + H + 2NO₃
Ni(NO₃)₂ + H₂O ⇔ NiOHNO₃ + HNO₃
AlBr₃
Al(OH)₃ - слабое основание, HBr - сильная кислота. Гидролиз идёт по катиону. Среда - кислая
Al + H₂O ⇔ AlOH + H
3Br + Al + H₂O ⇔ AlOH + H + 3Br
AlBr₃ + H₂O ⇔ AlOHBr₂ + HBr