ів... Обчислити об'єм (мл) 20% розчину натрій гідроксиду (густина розчину 1,1г/ мл), який необхідний для розчинення 9,9 г цинк (1) гідроксиду Відповідь подайте цілим числом, не вказуючи одиниць вимірювання
4P+5O2 = 2P2O5 - сначала пишете уравнение, уравниваете, расставляете коэффициенты
Затем нам дан объем кислорода, мы можем найти его моль по формуле: n= V/Vm, где v - объем, а Vm - молярный объем, который является 22.4 л/моль для газов при нормальных условиях: n(O2) = 11.2 л / 22.4 (л/моль) = 0.5 моль
Теперь надо найти моли фосфора и оксида. n(P) = 0,5 / 5 x 4 = 0.4 моль - так как перед кислородом стоит 5, 0.5 делим на 5, а так как перед фосфором стоит 4, умножаем на 4 и получаем моли фосфора. Точно так же с оксидом: n(P2O5) = 0.5 / 5 x 2 = 0.2 моль
теперь мы можем найти их массы по формуле: m = n x M, где М - молярная масса, которую ищем в таблице менделеева
m(P) = 0.4 моль х 31 г/моль = 12.4 г m(P2O5) = 0.2 моль х (31х2+16х5) г/моль= 28.4 г
При этом образуется аморфный кремний, имеющий вид бурого порошка[6].
В промышленности кремний технической чистоты получают, восстанавливая расплав SiO2 коксом при температуре около 1800 °C в руднотермических печах шахтного типа. Чистота полученного таким образом кремния может достигать99,9 % (основные примеси — углерод, металлы).
Возможна дальнейшая очистка кремния от примесей.
Очистка в лабораторных условиях может быть проведена путём предварительного получения силицида магния Mg2Si. Далее из силицида магния с соляной или уксусной кислот получают газообразный моносилан SiH4. Моносилан очищают ректификацией, сорбционными и др. методами, а затем разлагают на кремний и водород при температуре около 1000 °C.Очистка кремния в промышленных масштабах осуществляется путём непосредственного хлорирования кремния. При этом образуются соединения состава SiCl4, SiHCl3 и SiH2Cl2. Их различными очищают от примесей (как правило, перегонкой и диспропорционированием) и на заключительном этапе восстанавливают чистым водородом при температурах от 900 до 1100 °C.Разрабатываются более дешёвые, чистые и эффективные промышленные технологии очистки кремния. На 2010 г. к таковым можно отнести технологии очистки кремния с использованием фтора (вместо хлора); технологии, предусматривающие дистилляцию монооксида кремния; технологии, основанные на вытравливании примесей, концентрирующихся на межкристаллитных границах.
Содержание примесей в доочищенном кремнии может быть снижено до10−8—10−6 % по массе. Более подробно вопросы получения сверхчистого кремния рассмотрены в кремний.
получения кремния в чистом виде разработан Николаем Николаевичем Бекетовым.
В России технический кремний производится «ОК Русал» на заводах в г.Каменск-Уральский (Свердловская область) и г. Шелехов (Иркутская область); доочищенный по хлоридной технологии кремний производит группа «Nitol Solar» на заводе в г. Усолье-Сибирское.
Затем нам дан объем кислорода, мы можем найти его моль по формуле: n= V/Vm, где v - объем, а Vm - молярный объем, который является 22.4 л/моль для газов при нормальных условиях:
n(O2) = 11.2 л / 22.4 (л/моль) = 0.5 моль
Теперь надо найти моли фосфора и оксида.
n(P) = 0,5 / 5 x 4 = 0.4 моль - так как перед кислородом стоит 5, 0.5 делим на 5, а так как перед фосфором стоит 4, умножаем на 4 и получаем моли фосфора. Точно так же с оксидом:
n(P2O5) = 0.5 / 5 x 2 = 0.2 моль
теперь мы можем найти их массы по формуле: m = n x M, где М - молярная масса, которую ищем в таблице менделеева
m(P) = 0.4 моль х 31 г/моль = 12.4 г
m(P2O5) = 0.2 моль х (31х2+16х5) г/моль= 28.4 г
{\displaystyle {\mathsf {SiO_{2}+2Mg\ \rightarrow \ 2MgO+Si}}}
При этом образуется аморфный кремний, имеющий вид бурого порошка[6].
В промышленности кремний технической чистоты получают, восстанавливая расплав SiO2 коксом при температуре около 1800 °C в руднотермических печах шахтного типа. Чистота полученного таким образом кремния может достигать99,9 % (основные примеси — углерод, металлы).
Возможна дальнейшая очистка кремния от примесей.
Очистка в лабораторных условиях может быть проведена путём предварительного получения силицида магния Mg2Si. Далее из силицида магния с соляной или уксусной кислот получают газообразный моносилан SiH4. Моносилан очищают ректификацией, сорбционными и др. методами, а затем разлагают на кремний и водород при температуре около 1000 °C.Очистка кремния в промышленных масштабах осуществляется путём непосредственного хлорирования кремния. При этом образуются соединения состава SiCl4, SiHCl3 и SiH2Cl2. Их различными очищают от примесей (как правило, перегонкой и диспропорционированием) и на заключительном этапе восстанавливают чистым водородом при температурах от 900 до 1100 °C.Разрабатываются более дешёвые, чистые и эффективные промышленные технологии очистки кремния. На 2010 г. к таковым можно отнести технологии очистки кремния с использованием фтора (вместо хлора); технологии, предусматривающие дистилляцию монооксида кремния; технологии, основанные на вытравливании примесей, концентрирующихся на межкристаллитных границах.
Содержание примесей в доочищенном кремнии может быть снижено до10−8—10−6 % по массе. Более подробно вопросы получения сверхчистого кремния рассмотрены в кремний.
получения кремния в чистом виде разработан Николаем Николаевичем Бекетовым.
В России технический кремний производится «ОК Русал» на заводах в г.Каменск-Уральский (Свердловская область) и г. Шелехов (Иркутская область); доочищенный по хлоридной технологии кремний производит группа «Nitol Solar» на заводе в г. Усолье-Сибирское.